氧化镓单晶及外延片生长

成果单位:
发布时间:2025/12/17
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研发团队

南京邮电大学集成电路科学与工程学院(产教融合学院)李山副教授

技术领域

信息超材料

项目简介

通过自主组装改造的国产导模法单晶炉,突破2英寸Ga2O3单晶等径生长技术,实现装备与技术的自主可控。基于双温控垂直喷淋MOCVD系统开发大面积Ga2O3薄膜均匀生长技术,在2英寸异质外延中实现厚度高均匀性;通过Si/Sn/Al掺杂探索高效电学性能调控。
市场应用前景:市场价值较高,产业化前景较好。
技术先进性、原创性:率先突破了2英寸氧化镓单晶等径生长技术,实现了单晶生长装备和技术的自主可控。在Ga2O3异质外延方面,团队基于双温控垂直喷淋MOCVD系统开发了大面积氧化镓薄膜均匀生长技术,现2英寸异质外延薄膜厚度高均匀性的突破;并通过Si、Sn、Al元素的掺杂制备,探索了氧化镓外延薄膜的高效电学性能调控技术。
应用范围:适用于高压、电力电子、新能源汽车等